等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2025-01-16
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時間:2025-01-15
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時間:2025-01-15
日本yamato等離子清洗機pdc200/pdc210/pdc510|gas plasma dry cleaners，主要用于csb/bga/cob基板的等離子處理，有機膜和金屬氧化膜的除去，印刷電路基板的干洗，界面活性處理等；適用于科研試驗的等離子清洗機。
更新時間:2025-01-15
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2025-01-15
trigonal砂輪范圍包括trigonal金剛石砂輪和trigonal cbn砂輪。trigonal砂輪公司以創(chuàng)/新和ling活為特色, 響應個人客戶的要求, 確bao您的打磨項目量身定做和全/面實施。
更新時間:2025-01-14
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-01-13
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進行定制。
更新時間:2025-01-13
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-01-13
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-01-13
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-01-13
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術可應用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-01-13
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
npc-3000等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用
更新時間:2025-01-06
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
nie-3500 (ac)全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
npe-4000（m） pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時間:2025-01-06
npe-4000（a）全自動pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
npc-4000（m）等離子清洗機概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
npc-3500（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機械測試儀，可快速提供準確的定量結果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產(chǎn)品線中全面的測試套件。
更新時間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時間:2024-12-30
2.6 升的low-cost-plasma-laboranlage zepto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時間:2024-12-30
10.5 升的low-cost-plasma-laboranlage atto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時間:2024-12-30
德國diener electronic成立于1993年，是低溫等離子工業(yè)的導者，是一家門研發(fā)和制造低溫低壓等離子清洗機、等離子射頻電源和大氣（常壓）等離子清洗機的高科技企業(yè)。
更新時間:2024-12-30
diener等離子表面處理設備 德國原裝進口德國diener是門生產(chǎn)經(jīng)濟、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設備的市場和技術先者。diener采用先進的集成化技術開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應用先進技術的2.45ghz的等離子清洗機。
更新時間:2024-12-30
diener,plasmbeam,plasmbeam pc,plasmbeam大氣壓等離子清洗機/等離子表面處理
更新時間:2024-12-30
iener等離子表面處理設備 德國原裝進口德國diener是門生產(chǎn)經(jīng)濟、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設備的市場和技術先者。diener采用先進的集成化技術開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應用先進技術的2.45ghz的等離子清洗機。
更新時間:2024-12-30
benchplasmacleaner小型等離子清洗系統(tǒng)pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設備域當之無愧的先者，我們?yōu)閷嶒炇已邪l(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。harrick等離子體表面處理儀的應用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
更新時間:2024-12-30
pico 等離子設備能夠以不同的形式進行整合，例如以模塊系統(tǒng)的形式。在下文中您可以大致了解能夠與 pico 等離子系統(tǒng)一同使用的常見的選裝件。
更新時間:2024-12-30
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機等；美國公司為全球先的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力；并且其設備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
更新時間:2024-12-30
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產(chǎn)地：美國angstrom；型號：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時間:2024-12-30
vpg+800 / vpg+1100 / vpg+1400大尺寸超高速圖形發(fā)生器the multi-purpose volume pattern generators
更新時間:2024-12-30
nanofrazor scholar適合科研域的中小型實驗凈房與納米加工的學術研究域thermal scanning probe lithography toolwith in-situ imaging and grayscale patterning capabilities
更新時間:2024-12-30
mpo 100雙光子聚合 (tpp) 多用途工具multi-user tool for 3d lithography and 3d microprinting
更新時間:2024-12-30
最新產(chǎn)品
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