等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
子風(fēng)蛇 其用離子風(fēng)清除物體表面的靜電及塵埃，可利用蛇管隨意變動(dòng)指向目標(biāo)方向
更新時(shí)間:2025-01-27
電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)是普勒新世紀(jì)實(shí)驗(yàn)按照普洛帝分析儀器事業(yè)部的規(guī)劃，于2001年推向市場的成熟系統(tǒng)儀器；觀察顆粒形貌，還可以得到粒度分布、數(shù)量、大小、平均長徑比以及長徑比分布等，為科研、生產(chǎn)域增添了一種新的粒度測試手段；電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)為一種圖像法粒度分布測試以及顆粒型貌分析等多功能顆粒分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括光學(xué)顯微鏡、圖像測試。
更新時(shí)間:2025-01-24
德國 pva tepla等離子清洗系統(tǒng)80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式，微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個(gè)部位，實(shí)現(xiàn)清洗過程的自由基不會(huì)被障礙物所阻擋，并且不會(huì)改變表面的粗糙度。
更新時(shí)間:2025-01-17
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)？梢詫(duì)不耐濕熱的器械進(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對(duì)醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時(shí)間:2025-01-16
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對(duì)密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時(shí)間:2025-01-15
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對(duì)密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時(shí)間:2025-01-15
日本yamato等離子清洗機(jī)pdc200/pdc210/pdc510|gas plasma dry cleaners，主要用于csb/bga/cob基板的等離子處理，有機(jī)膜和金屬氧化膜的除去，印刷電路基板的干洗，界面活性處理等；適用于科研試驗(yàn)的等離子清洗機(jī)。
更新時(shí)間:2025-01-15
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)？梢詫(duì)不耐濕熱的器械進(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對(duì)醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時(shí)間:2025-01-15
trigonal砂輪范圍包括trigonal金剛石砂輪和trigonal cbn砂輪。trigonal砂輪公司以創(chuàng)/新和ling活為特色, 響應(yīng)個(gè)人客戶的要求, 確bao您的打磨項(xiàng)目量身定做和全/面實(shí)施。
更新時(shí)間:2025-01-14
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進(jìn)行定制。
更新時(shí)間:2025-01-13
對(duì)于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-01-13
對(duì)于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3000等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-01-06
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片，但通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
nie-3500 (ac)全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片，并且通過計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
npe-4000（m） pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺(tái)可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
npe-4000（a）全自動(dòng)pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺(tái)可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3500（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-4000（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機(jī)械測試儀，可快速提供準(zhǔn)確的定量結(jié)果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產(chǎn)品線中全面的測試套件。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
2.6 升的low-cost-plasma-laboranlage zepto 為手動(dòng)型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
10.5 升的low-cost-plasma-laboranlage atto 為手動(dòng)型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國diener electronic成立于1993年，是低溫等離子工業(yè)的導(dǎo)者，是一家門研發(fā)和制造低溫低壓等離子清洗機(jī)、等離子射頻電源和大氣（常壓）等離子清洗機(jī)的高科技企業(yè)。
更新時(shí)間:2024-12-30
diener等離子表面處理設(shè)備 德國原裝進(jìn)口德國diener是門生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場和技術(shù)先者。diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應(yīng)用先進(jìn)技術(shù)的2.45ghz的等離子清洗機(jī)。
更新時(shí)間:2024-12-30
diener,plasmbeam,plasmbeam pc,plasmbeam大氣壓等離子清洗機(jī)/等離子表面處理
更新時(shí)間:2024-12-30
iener等離子表面處理設(shè)備 德國原裝進(jìn)口德國diener是門生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場和技術(shù)先者。diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應(yīng)用先進(jìn)技術(shù)的2.45ghz的等離子清洗機(jī)。
更新時(shí)間:2024-12-30
benchplasmacleaner小型等離子清洗系統(tǒng)pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備域當(dāng)之無愧的先者，我們?yōu)閷?shí)驗(yàn)室研發(fā)提供性價(jià)比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗(yàn)。harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
更新時(shí)間:2024-12-30
pico 等離子設(shè)備能夠以不同的形式進(jìn)行整合，例如以模塊系統(tǒng)的形式。在下文中您可以大致了解能夠與 pico 等離子系統(tǒng)一同使用的常見的選裝件。
更新時(shí)間:2024-12-30
光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等；美國公司為全球先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
更新時(shí)間:2024-12-30
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產(chǎn)地：美國angstrom；型號(hào)：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時(shí)間:2024-12-30
最新產(chǎn)品
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