等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
等離子清洗機(jī)是一種表面處理設(shè)備, 用氣體作為處理介質(zhì)，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對固體樣品表面進(jìn)行相互作用，引起分子結(jié)構(gòu)改變，從而對樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表 面特性。
更新時(shí)間:2025-02-10
hty-30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時(shí)間:2025-01-30
spk-500s 寬幅等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)，氣體通過激勵電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時(shí)間:2025-01-29
子風(fēng)蛇 其用離子風(fēng)清除物體表面的靜電及塵埃，可利用蛇管隨意變動指向目標(biāo)方向
更新時(shí)間:2025-01-27
電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)是普勒新世紀(jì)實(shí)驗(yàn)按照普洛帝分析儀器事業(yè)部的規(guī)劃，于2001年推向市場的成熟系統(tǒng)儀器；觀察顆粒形貌，還可以得到粒度分布、數(shù)量、大小、平均長徑比以及長徑比分布等，為科研、生產(chǎn)域增添了一種新的粒度測試手段；電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)為一種圖像法粒度分布測試以及顆粒型貌分析等多功能顆粒分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括光學(xué)顯微鏡、圖像測試。
更新時(shí)間:2025-01-24
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)。可以對不耐濕熱的器械進(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時(shí)間:2025-01-16
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時(shí)間:2025-01-15
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內(nèi)酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學(xué)分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質(zhì)的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時(shí)間:2025-01-15
日本yamato等離子清洗機(jī)pdc200/pdc210/pdc510|gas plasma dry cleaners，主要用于csb/bga/cob基板的等離子處理，有機(jī)膜和金屬氧化膜的除去，印刷電路基板的干洗，界面活性處理等；適用于科研試驗(yàn)的等離子清洗機(jī)。
更新時(shí)間:2025-01-15
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時(shí)間:2025-01-15
trigonal砂輪范圍包括trigonal金剛石砂輪和trigonal cbn砂輪。trigonal砂輪公司以創(chuàng)/新和ling活為特色, 響應(yīng)個(gè)人客戶的要求, 確bao您的打磨項(xiàng)目量身定做和全/面實(shí)施。
更新時(shí)間:2025-01-14
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進(jìn)行定制。
更新時(shí)間:2025-01-13
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-01-13
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3000等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-01-06
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計(jì)算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
nie-3500 (ac)全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計(jì)算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
npe-4000（m） pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
npe-4000（a）全自動pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-3500（a）全自動等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等；美國公司為全球先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
更新時(shí)間:2024-12-30
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產(chǎn)地：美國angstrom；型號：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時(shí)間:2024-12-30
vpg+800 / vpg+1100 / vpg+1400大尺寸超高速圖形發(fā)生器the multi-purpose volume pattern generators
更新時(shí)間:2024-12-30
nanofrazor scholar適合科研域的中小型實(shí)驗(yàn)凈房與納米加工的學(xué)術(shù)研究域thermal scanning probe lithography toolwith in-situ imaging and grayscale patterning capabilities
更新時(shí)間:2024-12-30
mpo 100雙光子聚合 (tpp) 多用途工具multi-user tool for 3d lithography and 3d microprinting
更新時(shí)間:2024-12-30
jem-2800是日本電子透射電子顯微鏡系列中的一款特殊設(shè)計(jì)的產(chǎn)品，在兼顧高分辨高穩(wěn)定性的同時(shí)，求分析效率的大化和操作的自動化。顛覆傳統(tǒng)的電鏡外觀設(shè)計(jì)，除了讓人耳目一新外，還對設(shè)置環(huán)境更具抗干擾能力。
更新時(shí)間:2024-12-30
016年新年伊始，日本電子株式會社（jeol）即全球同步推出了新款場發(fā)射透射電鏡jem-f200。 為了全面整合近年發(fā)展起來的透射電鏡上的各種功能，jem-f200進(jìn)行了全新設(shè)計(jì)，在保障各種功能達(dá)到限的同時(shí)，追求操作的簡單化和自動化，為用戶提供透射電鏡操作的全新體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-12-30
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機(jī)械測試儀，可快速提供準(zhǔn)確的定量結(jié)果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產(chǎn)品線中全面的測試套件。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
2.6 升的low-cost-plasma-laboranlage zepto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
10.5 升的low-cost-plasma-laboranlage atto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
最新產(chǎn)品
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