GB/T 6672臺式薄膜測厚儀 包裝薄膜厚度測定儀LabthinkPARAM博每 CHY-C2A測厚儀產(chǎn)地:濟南蘭光機電技術(shù)有限公司品牌:Labthink蘭光咨詢熱線:0531-85068566、15764121171
薄膜厚度測量范圍: 3nm~450um,精度為0.1nm。 光源及探測器的波長從紫外220nm至近紅外1700nm。
ST2000薄膜厚度測量儀特點1) 因為是利用光的方式,所以是非接觸式,非破壞式,不會影響實驗樣品。
2) 可獲得厚度和 n,k 數(shù)據(jù)。
3) 測量迅速正確,且不必為測量而破壞或加工實驗樣品。
4) 可測量3層以內(nèi)的多層膜。
5) 根據(jù)用途可自由選擇手動型或自動型。
6) 產(chǎn)品款式多樣,而且也可以根據(jù)顧客的要求設計產(chǎn)品
7)可測量 PDP 上的膜厚度 (Stage size 6“ 8”, 12“ ...)
8)超大型Stage (PDP專用)
ST2000薄膜厚度測量儀產(chǎn)品規(guī)格/型號
Stage Size | ~1700mm x 1200mm Automation Thickness Measurement |
Measurement Range | 100?~ 50μ m(Depends on Film Type) |
Spot size | 40μ m/20μ m/10μ m,μ光m |
Measurement Speed | 1~2sec/site Typically |
Application Areas | Polymers : PVA, PET, PP, PR ... Dielectrics : SiO2, TiO2, ITO, ZrO2, Si3N4 semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, inP,ZnS... PR,ITO,SIO2 on the Glass Intended for Large Size PDP Dlelectric Material, MgO, ITO on the Glass Intended for Large size PDP |
Option | Programmable Auto X-Y Stage Auto Focusing CCD Camera |
Function | Pattern Identification by Pattern Maching Entry-level CD Measurement |
ST2000薄膜厚度測量儀特點1) 因為是利用光的方式,所以是非接觸式,非破壞式,不會影響實驗樣品。
2) 可獲得厚度和 n,k 數(shù)據(jù)。
3) 測量迅速正確,且不必為測量而破壞或加工實驗樣品。
4) 可測量3層以內(nèi)的多層膜。
5) 根據(jù)用途可自由選擇手動型或自動型。
6) 產(chǎn)品款式多樣,而且也可以根據(jù)顧客的要求設計產(chǎn)品
7)可測量 PDP 上的膜厚度 (Stage size 6“ 8”, 12“ ...)
8)超大型Stage (PDP專用)
ST2000薄膜厚度測量儀產(chǎn)品規(guī)格/型號
Stage Size | ~1700mm x 1200mm Automation Thickness Measurement |
Measurement Range | 100?~ 50μ m(Depends on Film Type) |
Spot size | 40μ m/20μ m/10μ m,μ光m |
Measurement Speed | 1~2sec/site Typically |
Application Areas | Polymers : PVA, PET, PP, PR ... Dielectrics : SiO2, TiO2, ITO, ZrO2, Si3N4 semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, inP,ZnS... PR,ITO,SIO2 on the Glass Intended for Large Size PDP Dlelectric Material, MgO, ITO on the Glass Intended for Large size PDP |
Option | Programmable Auto X-Y Stage Auto Focusing CCD Camera |
Function | Pattern Identification by Pattern Maching Entry-level CD Measurement |
光學薄膜厚度測量儀在傳統(tǒng)薄膜測厚儀的基礎(chǔ)上添加了加熱/制冷的溫度控制單元,使用白光反射光譜技術(shù)(WLRS),實時測量薄膜厚度和折射率,并通過專業(yè)軟件記錄下這些數(shù)據(jù)。這款薄膜測厚儀,光學薄膜測厚儀,薄膜厚度測量儀用于測量聚合物薄膜和光致抗蝕劑薄膜在加熱或制冷情況下薄 膜厚度和光學常量(n, k)的變化。為了這種特色的測量,我們特意研發(fā)了專業(yè)的軟件和算法,使得該聚合物薄膜測厚儀能夠給出薄膜的物理化學指標:例如玻璃化轉(zhuǎn)變溫度 glass transition temperature (Tg), ,熱分解溫度thermal degradation temperature (Td) ,薄膜的厚度測量范圍也高達10nm--100微米。
詳情瀏覽: http://www.f-lab.cn/surface-residue/coating-mapping.html這 套薄膜測厚儀,光學薄膜測厚儀,薄膜厚度測量儀能夠快速實時給出薄膜厚度和薄膜光學常量等物理化學性能數(shù)據(jù),并且能夠控制薄膜加熱和 制冷的速度,是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。所使用的軟件也適合薄膜的其他熱性能研究,例如:薄膜的熱消融/熱剝蝕thermal ablation研究,薄膜光學性質(zhì)隨溫度的變化,薄膜預烘烤Post Apply Bake,光刻過程后烘烤 Post Exposure Bake對薄膜厚度的損失等諸多研究。對于薄膜測厚儀,光學薄膜測厚儀,薄膜厚度測量儀要求薄膜襯底是透明的,背面是不反射的。它能夠處理最高4層薄膜的膜堆layer stacks,給出兩個參數(shù):例如兩個薄膜的厚度或一個薄膜的厚度和光學常量。這套薄膜測厚儀,光學薄膜測厚儀,薄膜厚度測量儀已經(jīng)成功應用于測量不同聚合物薄膜的熱性能,光刻薄膜的熱處理影響分析,Si晶圓wafer上的光致抗蝕劑薄膜分析等。標準參數(shù)可測膜厚: 5nm-150微米;波長范圍:200-1100nm精度:0.5%分辨率:0.02nm測量點光斑大。0.5mm可測樣品大小:10-100mm計算機要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:13.5kg電力要求:110/230VAC薄膜測厚儀,光學薄膜測厚儀,薄膜厚度測量儀應用聚合物薄膜測量光致抗蝕劑薄膜測量化學和生物薄膜測量,傳感測量光電子薄膜結(jié)構(gòu)測量半導體制造在線測量光學鍍膜測量中國最大的進口精密光學器件和科學儀器供應商。
Email: info@felles.cn 或 felleschina@outlook.comWeb: www.felles.cn (激光光學精密儀器網(wǎng)) www.felles.cc (綜合性尖端測試儀器網(wǎng)) www.f-lab.cn (綜合性實驗室儀器網(wǎng))商品描述:
一、設備名稱:塑料薄膜厚度測量儀(千分或百分測量) 型號:CHY-10
二、設備用途: 本儀器是采用高精度數(shù)顯千分表測量塑料薄膜及薄片的專用儀器。具有測量精度高、數(shù)據(jù)穩(wěn)定等特點,同時還可進行英吋和毫米之間變換。
三、主要技術(shù)指標: 1測量精度 : 0.001mm/0.0005″ 2測量范圍 : 0―10mm/0.2″
四、安裝方法: 1將底座從包裝中拿出,放于平穩(wěn)平面上. 2調(diào)整調(diào)整螺釘,使其處于水平位置. 3將千分表取出安裝在千分表支架上,并調(diào)整好上下測量塊,使其間隙為零. 4將千分表支架安裝在底座上的固定槽內(nèi),并用鎖緊手柄鎖緊.
五、使用方法: 用鋼絲軸將千分表測量頭抬起幾次后,將千分表值清零(按千分表上的”0”鈕).然后將測量頭抬起,把被測試樣放在下測量面上,將測量頭放下,這時千分表上的值即為被測試樣厚度值.(如果沒有試樣時,表上仍有讀數(shù),則看測量面上是否有臟東西,如有則用柔軟干凈的布將其擦掉,如果沒有則直接按千分表”0”鈕清零即可。