離子濺射儀產品及廠家
它適用于樣水中微量硅酸根、磷酸根、鐵、銅、聯氨、全鐵、余氯、氨等元素的定量測定。 廣泛的運用火力發(fā)電廠除鹽水蒸汽、 凝結水爐水及化工、制藥等行業(yè)。
更新時間:2025-01-27
xf806-rcm-10混凝土氯離子擴散系數測定儀是我公司自主開發(fā)的檢驗混凝土的長期性耐久性性能的儀器,此儀器完全符合gb/t 50082-2009標準。
更新時間:2025-01-27
總鋅在線監(jiān)測儀是技術上基于中國標準方法而研制的新一代全自動水中總鋅在線分析儀。經過預處理的水樣由注射泵注入到一個特殊反應器中后首先與酸性氧化劑進行反應，將水樣中所有形態(tài)的鋅統一氧化成二價鋅離子，接著調整溶液的ph值，后加入特性顯色劑進行顯色反應，在測量范圍內，其顏色的改變程度與水樣中的總鋅濃度成正比，通過測量顏色變化的程度，就可以計算出水樣中總鋅的含量。
更新時間:2025-01-27
bx104-215型離子活度計為4 1/2位led數字顯示，具有定位調節(jié)、等電位調節(jié)、溫度補償、斜率校準等功能。
更新時間:2025-01-27
本能地達至0+/-5v離子平衡，免除保養(yǎng)調整的煩腦，對靜電破壞極敏感的組件，提供好的保護。內置專利靜電針清潔擦，簡化保養(yǎng)程序。
更新時間:2025-01-27
離子風槍是一種高效的靜電消除裝置，通過高壓氣流將離子發(fā)生裝置所產生的大量正負離子迅速吹向所要除靜電的區(qū)域，中和物體上所積累的靜電電荷，同時高速離子氣流將靜電吸引的塵粒吹除，并阻止其再次吸引塵埃粒子；廣泛適用于電子裝配、徽電子制造、生物制品、制藥、注塑、印刷等行業(yè)。
更新時間:2025-01-27
jc516-yl2a 陰離子洗滌劑檢測儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水，以便控制水達到規(guī)定的水質標準。
更新時間:2025-01-27
供火力發(fā)電廠、核發(fā)電廠、石油、化工等相關行業(yè)對其鍋爐給水、蒸汽、凝結水、水內冷發(fā)電機冷卻水和爐水中的鐵離子濃度測定的必備儀表。
更新時間:2025-01-27
●供電電源電壓：ac 220v±15%/50hz或ac 110v±15%/60hz； ●工作電流：0.075a max speed； ●風量：120cfm； ●離子平衡電壓：≤±5v；
更新時間:2025-01-27
jc503-bfn臺式離子風機,專為局部區(qū)域而設計,具有體積超小,重量輕,安裝使用方便等特點,特別適用細小型空間,具有出眾的除靜電性能,防止靜電污染及破壞.是電子產品生產,維修等個人型靜電防護區(qū)域的理想設備.
更新時間:2025-01-27
總鎳在線監(jiān)測儀是技術上基于中國標準方法gb11910-89而研制的新一代全自動水中總鎳在線分析儀，該產品是慕迪科技在多年水質分析類產品研究基礎上推出的一系列免維護在線監(jiān)測儀。
更新時間:2025-01-27
日立高新磁控濺射器mc1000日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描
更新時間:2025-01-15
卷繞式濺射設備spw系列spw系列設備，是可在塑料薄膜上進行光學膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設備。實施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
更新時間:2025-01-14
load-lock式濺射設備cs-200load-lock式濺射設備cs-200，是可對應從研究開發(fā)到小規(guī)模量產的濺射設備。
更新時間:2025-01-14
濺射鍍膜設備smd系列（立式）smd 系列是鍍金屬膜、ito、igzo、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設備。僅smd系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各樣的生產環(huán)境下運轉。及時反映從生產現場聽取的意見，進一步提高設備的可靠性。
更新時間:2025-01-14
自 1995 年以來，sindlhauser materials 一直在為各地的工業(yè)公司提供種類繁多的涂層材料，例如由氧化物和非氧化物陶瓷或結合稀土金屬制成的濺射靶材，以及金屬和合金。該公司還支持使用等離子技術為各種產品鍍膜的行業(yè)運營。
更新時間:2025-01-14
nsc-1000磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
nsc-3000（m）磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
nsc-4000（a）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
桌面式磁控濺射儀kt-z1650pvd，外形小巧方便移動，觸摸屏控制工藝記憶儲存，自動電動擋板閥保護樣品，石英腔室更加潔凈方便清潔。
更新時間:2024-12-27
桌面式小型濺射儀kt-z1650pvd磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（pvd）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。
更新時間:2024-12-27
桌面式濺射儀kt-z1650pvd是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動樣品擋板，可調節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲存等功能，方便快捷。
更新時間:2024-12-27
儀器儲存了多種常用的離子模式如：h+、ag+、na+、k+、nh4+、cl-、f-、no3-、bf4-、cn-、cu2+、pb2+、ca2+等。測量濃度單位在(0.000～19990)mg/l、mol/l、px相互轉換。
更新時間:2024-10-25
日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度：20 mm
更新時間:2024-10-25
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 lv_ct-010為一款結構緊湊、全自動型的熱蒸發(fā)鍍碳設備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，可選通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射設備。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免交叉污染。ccu-010系列鍍膜儀標配膜厚監(jiān)測裝置。
更新時間:2024-09-14
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv為一款結構緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。ccu-010標配膜厚監(jiān)測裝置。
更新時間:2024-09-14
上？祪x離子計pxs-450/離子測定儀pxs-450由上海書培實驗設備有限公司為您提供，歡迎，www.shupeilab17.com，上？祪x離子計pxs-450/離子測定儀pxs-450產品介紹:
更新時間:2024-08-28
金華杰維修 shimadzu turbo pump controllers日本島津ei/fti全系列渦輪分子泵控制器、磁懸浮分子泵控制器，分子泵電源，分子泵驅動器，經驗豐富，檢測設備齊全，技術可靠，有多種型號備用分子泵及控制器，分子泵維修配件，二手分子泵（中古泵浦）并免費提供相關技術支持。
更新時間:2024-08-06
光學隔振平臺由鋼質蜂巢內核、頂板及底板組成，在降低重量的提下提供了足夠的硬度。光學隔振平臺頂板為高導磁性不銹鋼材料，底板為氧化處理碳鋼板，四周側板內層為碳鋼板外層為黑色鋁塑板.
更新時間:2024-04-10
磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是，在電場內在疊加一個磁場，這樣電子在疊加場內做螺旋運動，行程很長，每個電子電離的氣體分子比直流多很多很多，所以可以在低電壓下，有較好的真空度。
更新時間:2024-04-10
鄭州科探儀器設備有限公司是集開發(fā)、制造、經營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè)，如公司的產品已經遍布國內大多數實驗室 及*校，科探儀器已經成為老師 同學歡迎和信任的品牌之一
更新時間:2024-04-10
氣體從腔體底部向上經分布器以氣泡形式通過液層，氣相中的反應物溶入液相并進行反應，氣泡的攪拌作用可使液相充分混合。鼓泡塔結構簡單，沒有運動部件，適用于氣體加濕，氣液反應。
更新時間:2024-04-10
氣體從腔體底部向上經分布器以氣泡形式通過液層，氣相中的反應物溶入液相并進行反應，氣泡的攪拌作用可使液相充分混合。鼓泡塔結構簡單，沒有運動部件，適用于氣體加濕，氣液反應。各種非標法蘭定制
更新時間:2024-04-10
等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔等目的。
更新時間:2024-04-10
探針臺主要應用于傳感器，半導體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā)，旨在確保質量及可靠性，并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。
更新時間:2024-04-10
探針臺主要應用于傳感器，半導體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā)，旨在確保質量及可靠性，并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。
更新時間:2024-04-10
電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機 電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機是鄭州科探儀器設備有限公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面
更新時間:2024-04-10
浮子流量計氣體配比器是一款手動經濟型的氣體配比器系統 流量計由高精密針閥控制流量 主要運用精度要求不高的場合 如管式爐氣氛保護時氣體流量控制 大氣環(huán)境檢測與分析設備 化工、石化、冶金、光纖熔煉 金屬焊接惰性氣體配比混合 cvd pecvd系統 高溫加熱惰性氣體流量控制等
更新時間:2024-04-10
科探標準復合分子泵機組是一臺清潔的高真空獲得設備。此設備是根據真空知識原理，利用機械泵、渦輪分子泵組合成的真空獲得系統，具有啟動時間快、真空度高、操作方便等特點。廣泛應用于表面分析、加速器技術、等離子體技術、電真空器件制造及真空的各個域。設備的具體組成主要包括真空測量系統、真空室、閥門及真空管路、電器控制系統等
更新時間:2024-04-10
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更新時間:2024-01-09
該產品為臺式磁控濺射鍍膜機，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（au），鈀（pd），鉑（pt）和金/鈀（au / pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（sem）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。
更新時間:2023-12-20
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