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有掩模光刻機產(chǎn)品及廠家

AP200/300 投影步進式光刻機

ap200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 veeco 的可定制 unity 平臺™構建，可提供卓越的覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本效益的制造。這些系統(tǒng)特別適用于銅柱、扇出、硅通孔（tsv）和硅中介層應用。此外，該平臺還具有許多特定于應用的產(chǎn)品功能，可實現(xiàn)下一代封裝技術，例如增強的翹曲晶圓處理、雙面對準和光學聚焦

更新時間:2025-01-14

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

DSC300投影掃描光刻機

suss microtec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐dsc300投影掃描光刻機。這種有的掃描光刻平臺擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1x投影光刻系統(tǒng)中生產(chǎn)成本較為低的。

更新時間:2025-01-14

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VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機

vpg 800 / vpg 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。vpg1400是我們?yōu)轱@示行業(yè)設計的大的系統(tǒng)。它是平板顯示器（fpd）應用的好的選擇，例如 tft 陣列、彩色濾光片和 ito。這些工具還用于先進封裝、半導體、led 和觸摸屏應用的工業(yè)大面積光掩模應用。

更新時間:2025-01-14

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MA300 Gen3 掩模對準光刻機

ma300 gen3 掩模對準器用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺suss microtec 的 ma300 gen3 是一款高度自動化的掩模對準平臺，適用于 300 毫米和 200 毫米晶圓。它為 3d 封裝、晶圓封裝和倒裝芯片應用而設計，但也可用于必須暴露 4 微米和 100 微米幾何形狀范圍的其他技術。

更新時間:2025-01-14

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織雀™PL-3D Premium 高精密微3D光刻機

織雀™pl-3d premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3d光刻設備，高光學分辨率可達1μm，支持大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，設備還支持對準套刻功能，可在已有結(jié)構表面進行多材料的駁接打印，在復雜三維微納結(jié)構、高深寬比微納結(jié)構以及復合材料三維微納結(jié)構制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢。

更新時間:2025-01-14

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學儀器有限公司

織雀™PL-3D 桌面式高精密3D光刻機

織雀™pl-3d 是托托科技自主研發(fā)的桌面式高精密3d光刻設備，光學精度達5μm。在復雜三維微納結(jié)構、高深寬比微納結(jié)構以及復合材料三維微納結(jié)構制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢，而且還具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料種類多、無需掩膜版或模具直接成型的優(yōu)點。

更新時間:2025-01-14

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