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燃燒爐產(chǎn)品及廠家

800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80
800℃雙溫區(qū)高壓爐otf-1200x-ii-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。本機(jī)采用pid方式進(jìn)行控
更新時(shí)間:2025-02-07
800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80
800℃高壓爐otf-1200x-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。
更新時(shí)間:2025-02-07
生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW
生長(zhǎng)納米線cvd爐otf-1200x-4-nw是一種緊湊型cvd爐，專為生長(zhǎng)各種納米線而設(shè)計(jì)，基片最大3″。在法蘭的左側(cè)裝有一個(gè)小加熱器，可對(duì)輸入的氣體、液體、固體進(jìn)行預(yù)加熱后進(jìn)入 cvd 爐進(jìn)行納米線的生長(zhǎng)。其可滑動(dòng)的樣品架使操作更為簡(jiǎn)單。
更新時(shí)間:2025-02-07
1200℃雙管三溫區(qū)管式OTF-1200X-III-D5-4
200℃雙管三溫區(qū)管式爐（石墨烯生長(zhǎng)）otf-1200x-iii-d5-4最高工作溫度可以達(dá)到1200℃，專門針對(duì)于用cvd方法在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜物質(zhì)，如石墨烯、太陽(yáng)能電池的電極材料和其他電池電極材料等。
更新時(shí)間:2025-02-07
1400℃小型管式爐GSL-1400X
400℃小型管式爐gsl-1400x是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設(shè)有兩個(gè)真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設(shè)置30段升降溫程序，最高溫度可達(dá)1400℃。
更新時(shí)間:2025-02-07
1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ
1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1600x-ⅱ每個(gè)加熱區(qū)域長(zhǎng)300mm，由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達(dá)1600℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達(dá)1400℃，通過(guò)調(diào)節(jié)兩個(gè)溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一溫度梯度。本機(jī)可用于cvd或pvd方法來(lái)生長(zhǎng)納米材料和制作各種薄膜？販貎x表操作視頻
更新時(shí)間:2025-02-07
1500℃真空立式淬火爐OTF-1500X-80-VTQ
1500℃真空立式淬火爐otf-1500x-80-vtq一款是立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個(gè)密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1500℃環(huán)境中快速落入冰水或冷油中，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。
更新時(shí)間:2025-02-07
1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1200X-V
1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-v每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，通過(guò)調(diào)節(jié)各個(gè)溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度，或形成較長(zhǎng)的恒溫區(qū)域。本機(jī)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)或小批量生產(chǎn)，主要針對(duì)電子陶瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（cvd）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-02-07
1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1200X-Ⅲ
1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-ⅲ每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多等特點(diǎn)。本機(jī)可通氣氛抽真空，操作簡(jiǎn)單，安全可靠。
更新時(shí)間:2025-02-07
1200℃小型8通道管式爐（高通量燒結(jié)）
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：gsl-1200x-mgi-8是一款1200℃小型8通道管式爐，其爐管直徑為20mm，可用于高通量燒結(jié)，最高溫度可達(dá)1200℃。每個(gè)加熱模塊都由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，每個(gè)爐管采用真空法蘭密封，可同時(shí)放入8個(gè)樣品，在真空或
更新時(shí)間:2025-02-07
OTF-1200X-S-DVD小型坩堝移動(dòng)管式爐
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：otf-1200x-s-dvd是一款小型坩堝移動(dòng)管式爐（通過(guò)磁鐵推動(dòng)坩堝移動(dòng)），其爐管直徑為50mm,爐體工作溫度為≤1200℃，此款設(shè)備設(shè)計(jì)針對(duì)于直接蒸發(fā)沉積或快速熱處理實(shí)驗(yàn)，用于二維材料的生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:2025-02-07
布里奇曼單晶生長(zhǎng)爐
布里奇曼單晶生長(zhǎng)爐
更新時(shí)間:2025-02-07

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